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HORIBA STEC流量計LF-410A-EVD TEOS 4g/min液質(zhì)壓力計
簡要描述：HORIBASTECLF-F404M-A-EVDOMCTS5g/min液質(zhì)流量計深圳市天鉉真空技術(shù)有限公司HORIBASTEC流量計LF-410A-EVDTEOS4g/min液質(zhì)壓力計sellExchangRepairDebbbbbbion注入機FILAMENTP
產(chǎn)品型號：- 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
- 更新時間：2025-09-17
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HORIBA STEC LF-F404M-A-EVD OMCTS 5g/min液質(zhì)流量計
深圳市天鉉真空技術(shù)有限公司HORIBA STEC流量計LF-410A-EVD TEOS 4g/min液質(zhì)壓力計
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Debbbbbbion注入機 FILAMENT P.S電源MKS薄膜真空壓力計750C11MGA4GF
Aviza/SPTS Omega ICP etcher configuration inbbbbation:
1.Configured for 8'' wafer
2.automatic wafer handling
3.Cl2 based etching process
4.3 process modules
5.Inspected by SPTS OEM engineer
6.Missing 1x Mag7 robot
7.Missing 1x VCE B controller
8.Missing 1x 24V DC Power supply
ETCH主要產(chǎn)品涉及金屬加工件chamber Linear/heater/slit door）；密封件；以及ESC（包括ESC 翻 新
延長了使用壽命
加熱元件的發(fā)熱越有效，需要對它們進行的加熱就越少。Plansee 研發(fā)了一種能夠熱輸出的涂層工藝。
鎢基層具有高孔隙率的
- 鉬（熔點：2620°C）和鎢（熔點：3420°C）均是難熔金屬，高熔點使它們非常適合用于諸如 MOCVD 和 MBE 之類的高溫工藝。
- 耐腐蝕：
鉬和鎢在各種環(huán)境中都具有耐腐蝕性，甚至在溫度下也是如此：
| 鉬 | 鎢 | |
| 氨氣 |
- 在操作過程中，反應室部件中的雜質(zhì)也可能污染半導體。要保證半導體的質(zhì)量和 LED 或晶體管的效率，我們的材料必須無雜質(zhì)。我們保證材料純度高于 99.97%。
- 蒸氣壓低：
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